| 加工定制 | 是 |
|---|---|
| 类型 | 薄膜测厚仪 |
| 测量范围 | 1 nm -800um（mm） |
| 显示方式 | 电脑显示 |
| 电源电压 | 220（V） |
| 外形尺寸 | 650*650*650（mm） |
| 品牌 | 中国制造 |
| 型号 | MProbe MSP |
MProbe MSP显微薄膜测厚仪适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。
测量范围: 1 nm -800um
波长范围: 200 nm -1700 nm
光斑直径：200um-4um
适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。
测量指标：薄膜厚度，光学常数
界面友好强大: 一键式测量和分析。
实用的工具：曲线拟合和灵敏度分析，背景和变形校正，连接层和材料，多样品测量，动态测量和产线批量处理。
性能参数：
| 精度 | <0.01nm or 0.01% |
| 准确度 | <0.2% or 1 nm |
| 稳定性 | <0.02nm or 0.03% |
| 光斑直径 | 200um -4um |
| 样品大小 | 100um-200mm |
| 物镜 | 10X，20X，50X，8X（UV-NIR），长工作距离 |
测量100nm二氧化硅薄膜，40um光斑直径，波长范围：200-1000nm：
| 可选部件： | ||
| 型号 | 描述 | 备注 |
| MXY（6或8） | 电动载物台，行程6英寸（150mm）或8英寸（200mm），包含控制器和厚度绘图软件，0.5um步进，1um重复精度 | 准备配置中包含8英寸手动载物台 |
| TOM | 透射率测量模块，包含透射光源，聚光镜，和光纤 | 可用于可见光和近红外波段 |
| RetCCD | SCMOS相机，用于对测量部分的成像 | 可用于其他正置显微镜 |
| APO100 | APO 100倍物镜（可见光），分辨率0.7um | 标准配置中包含2X，10X，20X，50X物镜 |
| 型号 | 波长范围 | 光谱仪/检测器/光源 | 测量范围 |
| VIS-MSP | 400-1100nm | F4光谱仪，3600像素CCD检测器，卤钨灯 | 15nm-20um |
| UVVisSR-MSP | 200-1100nm | F4光谱仪，3600像素CCD检测器，氘灯和卤钨灯 | 1nm-20um |
| HRVIS-MSP | 700-1000 nm | 高分辨率F4光谱仪，204800像素CCD检测器，卤钨灯 | 1um-400um |
| NIR-MSP | 900-1700nm | F2光谱仪，512像素InGaAs PDA检测器，卤钨灯 | 100nm-200um |
| VISNIR-MSP | 400-1700nm | F4光谱仪，3600像素CCD检测器（可见光通道），F2光谱仪，512像素InGaAs PDA检测器（近红外通道），卤钨灯 | 15nm-200um |
| UVVISNIR-MSP | 200-1700nm | F4光谱仪，3600像素CCD检测器（可见光通道），F2光谱仪，512像素InGaAs PDA检测器（近红外通道），氘灯和卤钨灯 | 1nm-200um |
| HRVisX-MSP | 700nm-1000nm | HRX高分辨率F4光谱仪，3600像素CCD检测器，卤钨灯 | 5um-800um |
测量n和k值，其厚度范围需在25纳米和5微米之间
保修期1年
