品牌:OBLF，斯派克，NUOSHANG
加工定制:是
类型:薄膜测厚仪
起订:1台
供应:1台
| 加工定制 | 是 |
|---|---|
| 类型 | 薄膜测厚仪 |
| 测量范围 | 1 nm - 1 mm（mm） |
| 显示方式 | 电脑显示 |
| 电源电压 | 220（V） |
| 外形尺寸 | 650*650*350（mm） |
| 品牌 | 中国制造 |
| 型号 | MProbe |
当一束光入射到薄膜表面时，薄膜上表面和下表面的反射光会发生干涉，干涉的发生与薄膜厚度及光学常数等有关，反射光谱薄膜测厚仪**是基于此原理来测量薄膜厚度。
反射光谱干涉法是一种非接触式、无损的**且快速的光学薄膜厚度测量技术。
测量范围: 1 nm - 1 mm
波长范围: 200 nm -8000 nm
光斑尺寸:2mum -3 um
产品特点：
a. **高的测量精度：0.01nm或0.01%
b. 准确度：1nm或0.2%
c. 稳定性：0.02nm或0.02%
d. 强大的软件材料库，包含500多种材料的光学常数
e. 通过Modbus TCP或OPC协议，与其他设备联用
适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
标准配置中包含：
1. 主机(光谱仪，光源，电线)
2. 反射光纤
3. 样品台及光纤适配器
4. TFCompanion软件
5. 校准套装
6. 测试样品，200nm晶圆
广泛的应用于各种工业生产及工艺监控中：
半导体晶圆，薄膜太阳能电池，液晶平板，触摸屛，光学镀膜，聚合物薄膜等
多种型号可选，每个型号对应不同的测量范围：
测量n和k值，其厚度范围需在25纳米和5微米之间
还有其他配置可供选择
提供OEM和客户定制化服务
保修期1年
